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KAIJO楷捷/兆聲波晶圓清洗機(jī)/干燥設(shè)備/C-78Q-71 超聲波清洗主要原理: 1.空化作用 2.加速度 3.物理化學(xué)的反應(yīng)促進(jìn)作用 超聲波清洗應(yīng)用領(lǐng)域:半導(dǎo)體晶圓、硅晶片、復(fù)合晶片、太陽能電池、 HDD (媒體、基板和組件)、磁頭、平板顯示、玻璃、藍(lán)寶石、水晶印刷電路板、膜、陶瓷、 橡膠、樹脂模塑制品、汽車、電子、醫(yī)療、加工、精密零件、沖壓零件、模具、 金屬零件

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